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Sunbloss®SMLM成像缓冲液-MINFLUX
专为匹配MINFLUX成像技术而开发的高性能、专业化成像缓冲液。MINFLUX作为新一代单分子定位超分辨技术，其对荧光染料的光物理稳定性、光子输出效率及信噪比提出了极致苛刻的要求。 本产品经过特殊工艺精心配制，可为MINFLUX成像提供最优化的光物理环境。它能显著提升荧光染料的发光效率与稳定性，有效抑制光漂白，并确保单分子发光事件具有高度可控性和可靠性，从而保障MINFLUX技术所需的长时间、高精度单分子采样过程得以高效、稳定地进行。
| 规格 | 库存 | 价格 | 数量 | 操作 |
|---|---|---|---|---|
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有货 |
-17% |
| 名称 | 库存 | 价格 | 数量 | 操作 |
|---|---|---|---|---|
| Sunbloss®SMLM成像缓冲液-MINFLUX |
有货 |
-17% |
| 规格 | 库存 | 价格 | 数量 | 操作 |
|---|---|---|---|---|
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有货 |
-17% |
概述
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名称
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规格
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数量
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储存
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1
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Sunbloss® SMLM Imaging MINFLUX Buffer I
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2ml
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19
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4℃
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2
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Sunbloss® SMLM Imaging MINFLUX Buffer II
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400μl
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1
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-20℃
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3
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Sunbloss® SMLM Imaging MINFLUX Buffer III
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400μl
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1
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-20℃
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*本产品含有 3 种成分，需要在使用前新鲜配置，不可预混且久置。
1、产品功能
Sunbloss®SMLM成像缓冲液-MINFLUX是匹配 MINFLUX 成像的一套成像缓冲液，旨在为适宜 MINFLUX 数据采集的单分子信号保驾护航。相对于其他 SMLM 成像，MINFLUX 和 STORM 类似，都可采用闪烁染料作为单分子成像的对象，然而，MINFLUX 和 STORM 所需的闪烁性质不同。经过特殊工艺制作，可显著提高染料在 MINFLUX 成像中的闪烁性能和抗漂白能力，提高信号被采集到的概率。
2、产品使用Protocol
2.1 试剂配制
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成分
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buffer 1
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buffer 2
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buffer 3
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用量
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2000μl
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20μl
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10μl
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操作
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吸取20μl成分2 + 10μl成分3 ，加入2000μl成分3的管中，混匀，避免打入气泡。
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*本产品含有 3 种成分，需要在使用前新鲜配置，不可预混且久置。
*为匹配不同有机染料的闪烁频率与 MINFLUX 成像的匹配程度，用户可能需要自行调节bufferIII 的用量。
*提供 推荐用量 2 倍的 bufferIII含量，允许充分调节和探索。
2.2 使用 PBS 清洗待成像样品
使用 Sunbloss®️超纯制样 PBS 清洗待成像样品两次；
2.3 进行成像
吸去 PBS，将预混好的缓冲液加入成像玻底皿中，盖上盖子，准备成像。
2.4 样品回收
成像完成后将缓冲液吸走，用PBS快洗3遍、H2O快洗三遍样品。
关键点
预混的缓冲液有效时间为 1 小时；
在缓冲液配置和成像的过程中，应尽可能避免空气交换；
如果样品准备回收，需及时吸去缓冲液，并使用 PBS 及时清洗样品。
3、产品优势
MINFLUX 成像需要保真且标记密度适宜的样本，然而重要的是，在成像过程中，标记的荧光团需要被稀疏点亮，呈现单分子的状态。在实际操作中，MINFLUX超分辨率成像常受到样品淬灭，单分子闪烁不足或不匹配探测频率的困扰，导致采样不足。Sunbloss®SMLM成像缓冲液-MINFLUX可用于减轻荧光成像中活性氧对靶蛋白、荧光染料的损害；同时，特殊工艺可以增强染料闪烁，增加MINFLUX成像的采样数。
Sunbloss®SMLM成像缓冲液-MINFLUX，助力实现更稳定，更容易的 MINFLUX 成像